Wafer di zaffiro di 4 pollici C-Plane SSP/DSP 0,43 mm 0,65 mm
Applicazioni
● Substratu di crescita per i cumposti III-V è II-VI.
● Elettronica è optoelettronica.
● Applicazioni IR.
● Circuitu integratu di siliciu nantu à zaffiru (SOS).
● Circuitu Integratu di Radiofrequenza (RFIC).
In a pruduzzione di LED, i wafer di zaffiro sò aduprati cum'è substratu per a crescita di cristalli di nitruro di galliu (GaN), chì emettenu luce quandu si applica una corrente elettrica. U zaffiro hè un materiale di substratu ideale per a crescita di GaN perchè hà una struttura cristallina è un coefficientu di dilatazione termica simili à GaN, chì minimizza i difetti è migliora a qualità di u cristallu.
In ottica, i wafer di zaffiro sò aduprati cum'è finestre è lenti in ambienti à alta pressione è alta temperatura, è ancu in sistemi di imaging infrarossu, per via di a so alta trasparenza è durezza.
Specificazione
| Articulu | Wafer di zaffiro da 4 pollici (0001) da 650 μm in C-plane | |
| Materiali di cristallu | 99,999%, Alta Purezza, Al2O3 Monocristallinu | |
| Gradu | Prime, Epi-Ready | |
| Orientazione di a superficia | Pianu C (0001) | |
| Angulu fora di u pianu C versu l'asse M 0,2 +/- 0,1° | ||
| Diametru | 100,0 mm +/- 0,1 mm | |
| Spessore | 650 μm +/- 25 μm | |
| Orientazione Piatta Primaria | Pianu A (11-20) +/- 0,2° | |
| Lunghezza piatta primaria | 30,0 mm +/- 1,0 mm | |
| Lucidatu à un solu latu | Superficie frontale | Epi-lucidatu, Ra < 0,2 nm (per AFM) |
| (SSP) | Superficie posteriore | Macinazione fina, Ra = 0,8 μm à 1,2 μm |
| Doppiu Latu Lucidatu | Superficie frontale | Epi-lucidatu, Ra < 0,2 nm (per AFM) |
| (DSP) | Superficie posteriore | Epi-lucidatu, Ra < 0,2 nm (per AFM) |
| TTV | < 20 μm | |
| ARCU | < 20 μm | |
| ORDINAZIONE | < 20 μm | |
| Pulizia / Imballaggio | Pulizia di camere bianche di classe 100 è imballaggio sottovuoto, | |
| 25 pezzi in un imballaggio à cassetta o in un imballaggio à pezzu unicu. | ||
Imballaggio è spedizione
In generale, furnimu u pacchettu da una scatula di cassette di 25 pezzi; pudemu ancu imballà da un unicu contenitore di wafer sottu à una stanza di pulizia di gradu 100 secondu i requisiti di u cliente.
Diagramma dettagliatu



