GaN-On-Zaffiro da 6 pollici

Descrizzione breve:

Wafer epitaxiale di nitruro di galliu di 150 mm è 6 pollici di GaN nantu à u siliciu/zaffiru/SiC

A fetta di substratu di zaffiro di 6 pollici hè un materiale semiconduttore di alta qualità custituitu da strati di nitruro di galliu (GaN) cresciuti nantu à un substratu di zaffiro. U materiale hà eccellenti proprietà di trasportu elettronicu è hè ideale per a fabricazione di dispositivi semiconduttori di alta putenza è alta frequenza.


Funziunalità

Wafer epitaxiale di nitruro di galliu di 150 mm è 6 pollici di GaN nantu à u siliciu/zaffiru/SiC

A fetta di substratu di zaffiro di 6 pollici hè un materiale semiconduttore di alta qualità custituitu da strati di nitruro di galliu (GaN) cresciuti nantu à un substratu di zaffiro. U materiale hà eccellenti proprietà di trasportu elettronicu è hè ideale per a fabricazione di dispositivi semiconduttori di alta putenza è alta frequenza.

Metudu di fabricazione: U prucessu di fabricazione implica a crescita di strati di GaN nantu à un substratu di zaffiro utilizendu tecniche avanzate cum'è a deposizione chimica di vapore metallo-organicu (MOCVD) o l'epitassia à fasciu moleculare (MBE). U prucessu di deposizione hè realizatu in cundizioni cuntrullate per assicurà una alta qualità di cristalli è un film uniforme.

Applicazioni di GaN-On-Sapphire da 6 pollici: i chip di substratu di zaffiro da 6 pollici sò largamente usati in cumunicazioni à microonde, sistemi radar, tecnulugia wireless è optoelettronica.

Alcune applicazioni cumuni includenu

1. Amplificatore di putenza RF

2. Industria di l'illuminazione LED

3. Apparecchiature di cumunicazione di rete senza filu

4. Dispositivi elettronichi in ambienti à alta temperatura

5. Dispositivi optoelettronici

Specifiche di u produttu

- Dimensione: U diametru di u sustratu hè di 6 pollici (circa 150 mm).

- Qualità di a superficia: A superficia hè stata finamente lucidata per furnisce una qualità di specchiu eccellente.

- Spessore: U spessore di u stratu di GaN pò esse persunalizatu secondu esigenze specifiche.

- Imballaggio: U sustratu hè imballatu cù cura cù materiali antistatici per impedisce danni durante u trasportu.

- Bordi di pusizionamentu: U sustratu hà bordi di pusizionamentu specifichi chì facilitanu l'allineamentu è u funziunamentu durante a preparazione di u dispusitivu.

- Altri parametri: Parametri specifici cum'è a magrezza, a resistività è a cuncentrazione di doping ponu esse aghjustati secondu i requisiti di u cliente.

Cù e so proprietà di materiale superiori è e diverse applicazioni, i wafer di substratu di zaffiro di 6 pollici sò una scelta affidabile per u sviluppu di dispositivi semiconduttori ad alte prestazioni in varie industrie.

Substratu

Si di tipu p da 6” 1mm <111>

Si di tipu p da 6” 1mm <111>

Epi SpessuMedia

~5um

~7um

Epi ThickUnif

<2%

<2%

Arcu

+/-45um

+/-45um

Cracking

<5mm

<5mm

BV verticale

>1000V

>1400V

HEMT Al%

25-35%

25-35%

HEMT SpessaMedia

20-30nm

20-30nm

Cappucciu SiN in situ

5-60nm

5-60nm

Cuncentrazione 2DEG.

~1013cm-2

~1013cm-2

Mobilità

~2000cm2/Vs (<2%)

~2000cm2/Vs (<2%)

Rsh

<330 ohm/sq (<2%)

<330 ohm/sq (<2%)

Diagramma dettagliatu

GaN-On-Zaffiro da 6 pollici
GaN-On-Zaffiro da 6 pollici

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