Cialde di quarzu fusu d'alta purezza per semiconduttori, applicazioni ottiche fotoniche 2″4″6″8″12″
Diagramma dettagliatu


Panoramica di u vetru di quarzu

I wafer di quarzu formanu a spina dorsale di innumerevoli dispositivi muderni chì guidanu u mondu digitale d'oghje. Da a navigazione in u vostru smartphone à a spina dorsale di e stazioni base 5G, u quarzu furnisce tranquillamente a stabilità, a purezza è a precisione richieste in l'elettronica è a fotonica d'alte prestazioni. Ch'ella supporti circuiti flessibili, permetta sensori MEMS, o formi a basa per l'informatica quantica, e caratteristiche uniche di u quarzu u rendenu indispensabile in tutti l'industrie.
"Silice fusa" o "Quarzu fusu" chì hè a fase amorfa di u quarzu (SiO2). Quandu si cuntrasta cù u vetru borosilicatu, a silice fusa ùn hà micca additivi; dunque esiste in a so forma pura, SiO2. A silice fusa hà una trasmissione più alta in u spettru infrarossu è ultraviolettu paragunata à u vetru nurmale. A silice fusa hè prodotta fundendu è risolidificendu SiO2 ultrapuru. A silice fusa sintetica, invece, hè fatta da precursori chimichi ricchi di siliciu cum'è SiCl4 chì sò gasificati è poi ossidati in una atmosfera di H2 + O2. A polvere di SiO2 furmata in questu casu hè fusa in silice nantu à un substratu. I blocchi di silice fusa sò tagliati in wafer dopu à quale i wafer sò infine lucidati.
Caratteristiche principali è vantaghji di a cialda di vetru di quarzu
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Ultra-Alta Purezza (≥99.99% SiO2)
Ideale per i prucessi di semiconduttori è fotonici ultra-puliti induve a contaminazione di i materiali deve esse minimizzata. -
Ampia gamma di funziunamentu termicu
Mantene l'integrità strutturale da temperature criogeniche finu à più di 1100 °C senza deformazioni o degradazioni. -
Trasmissione UV è IR eccezziunale
Offre una eccellente chiarezza ottica da l'ultraviolettu prufondu (DUV) à l'infrarossu vicinu (NIR), supportendu applicazioni ottiche di precisione. -
Coefficiente di dilatazione termica bassu
Migliora a stabilità dimensionale sottu à fluttuazioni di temperatura, riducendu u stress è migliurendu l'affidabilità di u prucessu. -
Resistenza chimica superiore
Inerte à a maiò parte di l'acidi, alcali è solventi, ciò chì u rende adattatu per ambienti chimicamente aggressivi. -
Flessibilità di finitura superficiale
Disponibile cù finiture lucidate ultra-lisce, à una sola faccia o à duie facce, cumpatibile cù i requisiti di fotonica è MEMS.
Prucessu di fabricazione di wafer di vetru di quarzu
I wafer di quarzu fusu sò pruduciuti per via di una seria di passi cuntrullati è precisi:
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Selezzione di materie prime
Selezzione di quarzu naturale di alta purezza o fonti sintetiche di SiO₂. -
Fusione è fusione
U quarzu hè fusu à ~2000 ° C in forni elettrichi sottu una atmosfera cuntrullata per eliminà inclusioni è bolle. -
Furmazione di blocchi
A silice fusa hè raffreddata in blocchi solidi o lingotti. -
Affettatura di cialde
E seghe di precisione à diamanti o à filu sò aduprate per taglià i lingotti in spazii grezzi di wafer. -
Lappatura è lucidatura
E duie superfici sò appiattite è lucidate per risponde à e specifiche ottiche, di spessore è di rugosità esatte. -
Pulizia è Ispezione
I wafers sò puliti in camere bianche di classe ISO 100/1000 è sottumessi à un'ispezione rigorosa per difetti è cunfurmità dimensionale.
Proprietà di a cialda di vetru di quarzu
specificazione | unità | 4" | 6" | 8" | 10" | 12" |
---|---|---|---|---|---|---|
Diametru / taglia (o quadratu) | mm | 100 | 150 | 200 | 250 | 300 |
Tolleranza (±) | mm | 0,2 | 0,2 | 0,2 | 0,2 | 0,2 |
Spessore | mm | 0,10 o più | 0,30 o più | 0,40 o più | 0,50 o più | 0,50 o più |
Appartamentu di riferimentu primariu | mm | 32,5 | 57,5 | Semi-tacca | Semi-tacca | Semi-tacca |
LTV (5mm × 5mm) | μm | < 0,5 | < 0,5 | < 0,5 | < 0,5 | < 0,5 |
TTV | μm | < 2 | < 3 | < 3 | < 5 | < 5 |
Arcu | μm | ±20 | ±30 | ±40 | ±40 | ±40 |
Orditu | μm | ≤ 30 | ≤ 40 | ≤ 50 | ≤ 50 | ≤ 50 |
PLTV (5mm × 5mm) < 0,4μm | % | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% | ≥95% |
Arrotondamentu di i bordi | mm | Cunforme à a norma SEMI M1.2 / riferitevi à IEC62276 | ||||
Tipu di superficia | Lucidatu à un latu unicu / Lucidatu à dui lati | |||||
Latu lucidatu Ra | nm | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 | ≤1 |
Criterii di u latu posteriore | μm | generale 0.2-0.7 o persunalizatu |
Quarzu vs. Altri Materiali Trasparenti
Pruprietà | Vetru di quarzu | Vetru Borosilicatu | Zaffiru | Vetru Standard |
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Temperatura massima di funziunamentu | ~1100°C | ~500°C | ~2000°C | ~200°C |
Trasmissione UV | Eccellente (JGS1) | Poveru | Bene | Assai poveru |
Resistenza chimica | Eccellente | Moderatu | Eccellente | Poveru |
Purezza | Estremamente altu | Bassu à moderatu | Altu | Bassu |
Espansione termica | Assai bassu | Moderatu | Bassu | Altu |
Costu | Moderatu à altu | Bassu | Altu | Assai bassu |
FAQ di a cialda di vetru di quarzu
Q1: Chì ghjè a differenza trà u quarzu fusu è a silice fusa?
Mentre tramindui sò forme amorfe di SiO₂, u quarzu fusu vene tipicamente da fonti naturali di quarzu, mentre chì a silice fusa hè prodotta sinteticamente. Funzionalmente, offrenu prestazioni simili, ma a silice fusa pò avè una purezza è omogeneità ligeramente più elevate.
Q2: E cialde di quarzu fusu ponu esse aduprate in ambienti à altu vuotu?
Iè. Per via di e so proprietà di bassa degassazione è di l'alta resistenza termica, i wafer di quarzu fusi sò eccellenti per i sistemi di vuoto è l'applicazioni aerospaziali.
Q3: Queste cialde sò adatte per applicazioni laser UV profonde?
Assolutamente. U quarzu fusu hà una alta trasmittanza finu à ~185 nm, ciò chì u rende ideale per l'ottica DUV, e maschere litografiche è i sistemi laser à eccimeri.
Q4: Sustenete a fabricazione di wafer persunalizati?
Iè. Offremu una persunalizazione cumpleta cumprese u diametru, u spessore, a qualità di a superficia, i piani / tacche è a modellazione laser, basata annantu à i vostri requisiti specifici di l'applicazione.
Nantu à noi
XKH hè specializata in u sviluppu high-tech, a pruduzzione è a vendita di vetru otticu speciale è novi materiali cristallini. I nostri prudutti servenu l'elettronica ottica, l'elettronica di cunsumu è l'armata. Offremu cumpunenti ottici in zaffiro, coperture per lenti per telefoni cellulari, ceramica, LT, SIC in carburo di siliciu, quarzu è wafer di cristallo semiconduttore. Cù una cumpetenza qualificata è attrezzature d'avanguardia, eccellemu in a trasfurmazione di prudutti non standard, cù l'obiettivu di esse una impresa high-tech di punta in materiali optoelettronici.