Ni Substrate/wafer struttura cubica cristallina a=3.25A densità 8.91

Breve descrizzione:

I sustrati di nichel (Ni), in particulare in forma di wafers di nichel, sò largamente usati in a ricerca di a scienza di i materiali è l'elettronica per via di e so proprietà versatili. Disponibile in dimensioni di 5x5x0.5 mm, 10x10x1 mm, è 20x20x0.5 mm, sti sustrati sò orientati longu piani cristallografichi chjave cum'è <100>, <110>, è <111>. Queste orientazioni sò critichi per influenzà a deposizione di film sottile, a crescita epitaxiale è i studii di a superficia, postu chì permettenu una currispundenza precisa di lattice cù diversi materiali. I sustrati di nichel sò cumunimenti impiegati in applicazioni chì implicanu catalisi, materiali magnetichi è superconduttori per via di a so eccellente conduttività termica è elettrica. A so alta forza meccanica è a resistenza à a corrosione facenu ancu adattati per tecniche avanzate di rivestimentu, sviluppu di sensori è nanoelettronica. A cumminazione di precisione cristallografica, flessibilità dimensionale è materiale di nichel d'alta qualità assicura chì questi sustrati furnisce un rendimentu ottimale in applicazioni sperimentali è industriali. Cù a so capacità di sustene una larga gamma di filmi sottili è rivestimenti, i sustrati Ni sò integrali à u sviluppu di novi materiali è dispusitivi in ​​diversi campi high-tech.


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Specificazione

L'orientazione cristallografica di i sustrati Ni, cum'è <100>, <110>, è <111>, ghjucanu un rolu cruciale in a determinazione di a superficia di u materiale è e proprietà di interazzione. Queste orientazioni furniscenu capacità di currispundenza di lattice cù diversi materiali di film sottile, sustenendu a crescita precisa di strati epitassiali. Inoltre, a resistenza à a corrosione di u nichel a rende durabile in ambienti duri, chì hè benefica per l'applicazioni in u processu aerospaziale, marinu è chimicu. A so forza meccanica assicura ancu chì i sustrati Ni ponu resistà à i rigori di u processu fisicu è di l'esperimentu senza degradazione, furnisce una basa stabile per a deposizione di film sottile è e tecnulugia di rivestimentu. Questa cumminazione di proprietà termiche, elettriche è meccaniche rende i sustrati Ni essenziali per a ricerca avanzata in a nanotecnologia, a scienza di a superficia è l'elettronica.
E caratteristiche di u nichel ponu include una alta durezza è forza, chì pò esse dura quant'è 48-55 HRC. A bona resistenza à a corrosione, soprattuttu à l'acidu è l'alkali è altri media chimichi anu una excelente resistenza à a corrosione. A bona conductività elettrica è magnetismu, hè unu di i cumpunenti principali di a fabricazione di leghe elettromagnetiche.
U nichel pò esse usatu in parechji campi, cum'è un materiale cunduttivu per i cumpunenti elettroni è cum'è un materiale di cuntattu. Adupratu per fabricà batterie, mutori, trasformatori è altri equipaghji elettromagnetici. Adupratu in connettori elettronichi, linee di trasmissione è altri sistemi elettrici. Cum'è un materiale strutturale per l'equipaggiu chimicu, cuntenituri, pipelines, etc. Adupratu per fabricà l'equipaggiu di reazzione chimica cù esigenze di alta resistenza à a corrosione. Hè adupratu in i campi farmaceutichi, petrochimici è altri induve a resistenza di a corrosione di i materiali hè strettamente necessaria.

I sustrati di nichel (Ni), per via di e so versatili proprietà fisiche, chimiche è cristalografiche, trovanu numerosi applicazioni in una varietà di campi scientifichi è industriali. Quì sottu sò alcune di l'applicazioni chjave di i sustrati Ni: I sustrati di nichel sò largamente usati in a deposizione di filmi sottili è strati epitassiali. L'orientazione cristallografica specifica di i sustrati Ni, cum'è <100>, <110>, è <111>, furniscenu lattice matching cù diversi materiali, chì permettenu una crescita precisa è cuntrullata di filmi sottili. I sustrati Ni sò spessu usati in u sviluppu di i dispositi di almacenamento magnetichi, sensori è apparecchi spintronici, induve u cuntrollu di spin di l'elettroni hè chjave per migliurà u rendiment di u dispusitivu. U nichel hè un eccellente catalizzatore per e reazioni di evoluzione di l'idrogenu (HER) è di reazzioni di evoluzione di l'ossigenu (OER), chì sò critichi in a scissione di l'acqua è a tecnulugia di celle di carburante. I sustrati Ni sò spessu usati cum'è materiali di supportu per i rivestimenti catalitici in queste applicazioni, cuntribuiscenu à i prucessi di cunversione d'energia efficiente.
Pudemu persunalizà diverse specificazioni, spessori è forme di Ni substratu di cristallo unicu secondu e esigenze specifiche di i clienti.

Diagramma detallatu

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