p-type 4H/6H-P 3C-N TYPE SIC substrate 4inch 〈111〉± 0.5°Zero MPD

Descrizione breve:

U sustrato SiC di tipu P 4H / 6H-P 3C-N, 4-inch cù una orientazione 〈111〉± 0,5 ° è u gradu Zero MPD (Micro Pipe Defect), hè un materiale semiconduttore d'altu rendiment cuncepitu per un dispositivu elettronicu avanzatu. manifattura. Cunnisciutu per a so eccellente conduttività termale, alta tensione di rottura, è forte resistenza à e alte temperature è a corrosione, stu sustrato hè ideale per l'elettronica di putenza è l'applicazioni RF. U gradu Zero MPD guarantisci i difetti minimi, assicurendu affidabilità è stabilità in i dispositi d'altu rendiment. A so precisa orientazione 〈111〉± 0,5 ° permette un allinamentu precisu durante a fabricazione, facendu adattatu per i prucessi di fabricazione à grande scala. Stu sustrato hè largamente utilizatu in i dispositi elettronichi d'alta temperatura, d'alta tensione è di freccia alta, cum'è cunvertitori di putenza, inverter è cumpunenti RF.

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4H/6H-P Type SiC Composite Substrates Tabella di paràmetri cumuni

4 inch di diametru SiliconCarbure (SiC) substratu Specificazione

Grade			Pruduzzione Zero MPD Grade (Z Grade)	Pruduzzione Standard Grade (P Grade)	Grade Dummy (D Grade)
Diamitru			99,5 mm ~ 100,0 mm
Spessore			350 μm ± 25 μm
Orientazione Wafer			Off asse: 2,0 °-4,0 ° versu [112(-)0] ± 0,5 ° per 4H/6H-P, Oassi n: 〈111〉± 0,5 ° per 3C-N
Densità di micropipe			0 cm-2
Resistività	p-tipu 4H/6H-P		≤0,1 Ωꞏcm		≤0,3 Ωꞏcm
	n-tipu 3C-N		≤0,8 mΩꞏcm		≤1 m Ωꞏcm
Orientazione Piana Primaria		4H/6H-P	- {1010} ± 5,0 °
		3C-N	- {110} ± 5,0 °
Lunghezza piatta primaria			32,5 mm ± 2,0 mm
Lunghezza Flat Secondaria			18,0 mm ± 2,0 mm
Orientazione Piana Secundaria			Silicone a faccia in su: 90 ° CW. da Prime flat±5,0 °
Exclusion Edge			3 mm		6 mm
LTV/TTV/Arcu/Warp			≤2,5 μm/≤5 μm/≤15 μm/≤30 μm		≤10 μm/≤15 μm/≤25 μm/≤40 μm
Rugosità			Polacco Ra≤1 nm
			CMP Ra≤0.2 nm		Ra ≤ 0,5 nm
Cracks Edge Da Luce Alta Intensità			Nimu		Lunghezza cumulativa ≤ 10 mm, lunghezza unica ≤ 2 mm
Piastre Hex Per Luce Alta Intensità			Area cumulativa ≤0.05%		Area cumulativa ≤0.1%
Zone Polytype Per Luce Alta Intensità			Nimu		Area cumulativa ≤ 3%
Inclusioni Visual Carbon			Area cumulativa ≤0.05%		Area cumulativa ≤3%
A superficia di silicone graffia da a luce di alta intensità			Nimu		Lunghezza cumulativa≤1 × diametru di wafer
Edge Chips High By Intensity Light			Nisunu permessu ≥0.2mm larghezza è prufundità		5 permessi, ≤1 mm ognunu
Contaminazione di a Superficia di Siliciu Per Alta Intensità			Nimu
Imballaggio			Cassette multi-wafer o contenitore di wafer unicu

Note:

※ I limiti di difetti si applicanu à tutta a superficia di l'ostia eccettu per l'area di esclusione di u bordu. # I graffii devenu esse verificati solu nantu à a faccia Si.

U sustrato SiC di 4-inch di tipu P 4H / 6H-P 3C-N cù orientazione 〈111〉± 0.5 ° è u gradu Zero MPD hè largamente utilizatu in applicazioni elettroniche d'altu rendiment. A so eccellenti conductività termale è a tensione di rottura alta facenu ideale per l'elettronica di putenza, cum'è l'interruttori d'alta tensione, l'invertitori è i cunvertitori di putenza, chì operanu in cundizioni estremi. Inoltre, a resistenza di u sustrato à e alte temperature è a corrosione assicura un rendimentu stabile in ambienti duri. L'orientazione precisa 〈111〉± 0,5 ° aumenta a precisione di fabricazione, facendu adatta per i dispositi RF è l'applicazioni à alta frequenza, cum'è i sistemi radar è l'equipaggiu di cumunicazione wireless.

I vantaghji di i sustrati compositi SiC di tipu N includenu:

1. High Thermal Conductivity: Efficient dissipation di u calore, facendu adattatu per ambienti à alta temperatura è applicazioni di alta putenza.
2. High Breakdown Voltage: Assicura un rendimentu affidabile in l'applicazioni d'alta tensione cum'è i convertitori di putenza è inverter.
3. Zero MPD (Micro Pipe Defect) Grade: guarantisci difetti minimi, furnisce stabilità è alta affidabilità in i dispositi elettronichi critichi.
4. Corrosion Resistance: Durable in ambienti duru, assicurendu funziunalità à longu andà in cundizioni esigenti.
5. Orientazione precisa 〈111〉± 0.5 °: Permette un allinamentu precisu durante a fabricazione, migliurà u rendiment di u dispositivu in applicazioni d'alta frequenza è RF.

In generale, u sustrato SiC di 4-inch 4H-P-type 4H/6H-P 3C-N cù orientazione 〈111〉± 0.5° è Zero MPD grade hè un materiale d'alta prestazione ideale per l'applicazioni elettroniche avanzate. A so eccellenti conduttività termica è a tensione di rottura alta facenu perfetta per l'elettronica di putenza cum'è switches d'alta tensione, inverter è convertitori. U gradu Zero MPD assicura difetti minimi, furnisce affidabilità è stabilità in i dispositi critichi. Inoltre, a resistenza di u sustrato à a corrosione è à e alte temperature assicura a durabilità in ambienti duri. L'orientazione precisa 〈111〉± 0,5 ° permette un allinamentu precisu durante a fabricazione, facendu assai adattatu per i dispositi RF è l'applicazioni à alta frequenza.