substratu SIC di tipu p 4H/6H-P 3C-N di tipu 4 pollici 〈111〉± 0,5°Zero MPD

Descrizzione breve:

U substratu SiC di tipu P 4H/6H-P 3C-N, 4 pollici cù una orientazione 〈111〉± 0,5° è un gradu Zero MPD (Micro Pipe Defect), hè un materiale semiconduttore d'alte prestazioni cuncipitu per a fabricazione di dispositivi elettronichi avanzati. Cunnisciutu per a so eccellente cunduttività termica, l'alta tensione di rottura è a forte resistenza à e alte temperature è à a corrosione, questu substratu hè ideale per l'elettronica di putenza è l'applicazioni RF. U gradu Zero MPD garantisce difetti minimi, assicurendu affidabilità è stabilità in dispositivi d'alte prestazioni. A so orientazione precisa 〈111〉± 0,5° permette un allineamentu precisu durante a fabricazione, rendendulu adattatu per i prucessi di fabricazione à grande scala. Questu substratu hè largamente utilizatu in dispositivi elettronichi à alta temperatura, alta tensione è alta frequenza, cum'è convertitori di putenza, inverter è cumpunenti RF.


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Tavula di parametri cumuni di i substrati cumposti SiC di tipu 4H/6H-P

4 diametru in pollici di siliconeSubstratu di Carburu (SiC) Specificazione

 

Gradu Pruduzzione Zero MPD

Gradu (Z) Gradu)

Pruduzzione Standard

Gradu (P Gradu)

 

Gradu fittiziu (D Gradu)

Diametru 99,5 mm ~ 100,0 mm
Spessore 350 μm ± 25 μm
Orientazione di a cialda Fora d'asse: 2,0°-4,0° versu [112(-)0] ± 0,5° per 4H/6H-P, Oasse n: 〈111〉± 0,5° per 3C-N
Densità di i microtubi 0 cm-2
Resistività tipu p 4H/6H-P ≤0.1 Ωcm ≤0.3 Ωcm
tipu n 3C-N ≤0,8 mΩ·cm ≤1 m Ωcm
Orientazione Piatta Primaria 4H/6H-P -

{1010} ± 5,0°

3C-N -

{110} ± 5,0°

Lunghezza piatta primaria 32,5 mm ± 2,0 mm
Lunghezza piatta secundaria 18,0 mm ± 2,0 mm
Orientazione Piatta Secundaria Faccia di silicone in sù: 90° in sensu orariu da u pianu Prime±5,0°
Esclusione di u bordu 3 mm 6 mm
LTV/TTV/Arcu /Orditu ≤2.5 μm/≤5 μm/≤15 μm/≤30 μm ≤10 μm/≤15 μm/≤25 μm/≤40 μm
Rugosità Ra ≤1 nm polaccu
CMP Ra≤0.2 nm Ra≤0.5 nm
Crepe di bordu da luce d'alta intensità Nimu Lunghezza cumulativa ≤ 10 mm, lunghezza unica ≤ 2 mm
Piatti esagonali da luce ad alta intensità Area cumulativa ≤0,05% Area cumulativa ≤0,1%
Zone Politipiche per Luce d'Alta Intensità Nimu Area cumulativa ≤3%
Inclusioni di Carboniu Visuale Area cumulativa ≤0,05% Area cumulativa ≤3%
Graffii di a superficia di u silicone da a luce d'alta intensità Nimu Lunghezza cumulativa ≤1 × diametru di a cialda
Chip di bordu d'alta intensità di luce Nisunu permessu ≥0,2 mm di larghezza è prufundità 5 permessi, ≤1 mm ognunu
Cuntaminazione di a superficia di u siliciu per alta intensità Nimu
Imballaggio Cassetta multi-cialda o contenitore di cialda unica

Note:

※I limiti di difetti s'applicanu à tutta a superficia di a cialda, eccettu per a zona di esclusione di u bordu. # I graffi devenu esse verificati solu nantu à a faccia di Si.

U substratu SiC di tipu P 4H/6H-P 3C-N di 4 pollici cù orientazione 〈111〉± 0,5° è gradu Zero MPD hè largamente utilizatu in applicazioni elettroniche d'alte prestazioni. A so eccellente conducibilità termica è l'alta tensione di rottura u rendenu ideale per l'elettronica di putenza, cum'è interruttori d'alta tensione, inverter è convertitori di putenza, chì operanu in cundizioni estreme. Inoltre, a resistenza di u substratu à alte temperature è à a corrosione garantisce prestazioni stabili in ambienti difficili. L'orientazione precisa 〈111〉± 0,5° migliora a precisione di fabricazione, rendendulu adattatu per dispositivi RF è applicazioni d'alta frequenza, cum'è sistemi radar è apparecchiature di cumunicazione wireless.

I vantaghji di i substrati cumposti SiC di tipu N includenu:

1. Alta Cunduttività Termica: Dissipazione di u calore efficiente, chì a rende adatta per ambienti à alta temperatura è applicazioni à alta putenza.
2. Alta tensione di rottura: Assicura prestazioni affidabili in applicazioni ad alta tensione cum'è convertitori di potenza è inverter.
3. Gradu Zero MPD (Micro Tube Defect): Garantisce difetti minimi, furnendu stabilità è alta affidabilità in i dispositivi elettronichi critichi.
4. Resistenza à a corrosione: Durabile in ambienti difficili, assicurendu una funzionalità à longu andà in cundizioni esigenti.
5. Orientazione precisa 〈111〉± 0,5°: Permette un allineamentu precisu durante a fabricazione, migliurendu e prestazioni di u dispusitivu in applicazioni d'alta frequenza è RF.

 

In generale, u substratu SiC di tipu P 4H/6H-P 3C-N di 4 pollici cù orientazione 〈111〉± 0,5° è gradu Zero MPD hè un materiale d'alte prestazioni ideale per applicazioni elettroniche avanzate. A so eccellente conducibilità termica è l'alta tensione di rottura u rendenu perfettu per l'elettronica di putenza cum'è interruttori d'alta tensione, inverter è convertitori. U gradu Zero MPD garantisce difetti minimi, furnendu affidabilità è stabilità in i dispositivi critichi. Inoltre, a resistenza di u substratu à a corrosione è à e alte temperature garantisce a durabilità in ambienti difficili. L'orientazione precisa 〈111〉± 0,5° permette un allineamentu precisu durante a fabricazione, rendendulu assai adattatu per i dispositivi RF è l'applicazioni d'alta frequenza.

Diagramma dettagliatu

b4
b3

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