Pin di sollevamentu in zaffiro premium Pin di sollevamentu di wafer in Al₂O₃ monocristallo

1. Durezza è Resistenza à l'Usura Eccezziunali: Cù una durezza Mohs di 9, seconda solu à u diamante, i Perni di Sollevamentu in Zaffiru dimustranu caratteristiche di usura chì superanu dramaticamente e alternative tradiziunali di carburo di siliciu, ceramica d'alumina o leghe metalliche. Questa durezza estrema si traduce in una generazione di particelle è requisiti di manutenzione significativamente ridotti, cù una durata di vita tipicamente 3-5 volte più longa di i materiali cunvinziunali in applicazioni paragunabili.

2. Resistenza Superiore à Alte Temperature: Cuncepiti per sustene un funziunamentu sustinutu à temperature superiori à 1000 °C senza degradazione, i Perni di Sollevamentu in Zaffiru mantenenu a stabilità dimensionale è a resistenza meccanica in i prucessi termichi più esigenti. Questu li rende particularmente preziosi per applicazioni critiche cum'è a deposizione chimica da vapore (CVD), a deposizione chimica da vapore metallo-organicu (MOCVD) è i sistemi di ricottura à alta temperatura induve a discrepanza di espansione termica pò compromettere i rendimenti di u prucessu.

3. Inerzia Chimica: A struttura di zaffiro monocristallino dimostra una resistenza rimarchevule à l'attaccu di l'acidu HF, di e chimiche à basa di cloru è di altri gas di prucessu aggressivi chì si incontranu cumunemente in a fabricazione di semiconduttori. Questa stabilità chimica assicura prestazioni consistenti in ambienti à plasma è impedisce a furmazione di difetti superficiali chì puderanu purtà à a contaminazione di e wafer.

4. Bassa contaminazione di particelle: Fabbricati da cristalli di zaffiro senza difetti è di alta purezza (tipicamente > 99,99%), sti perni di sollevamentu mostranu una spargimentu minimu di particelle ancu dopu un usu prolongatu. A so struttura superficiale non porosa è e finiture lucidate rispondenu à i requisiti più rigorosi di e camere bianche, cuntribuendu direttamente à un miglioramentu di i rendimenti di u prucessu in a fabricazione avanzata di semiconduttori di nodi.

Machinazione d'alta precisione: Utilizendu tecniche avanzate di macinazione di diamanti è di trasfurmazione laser, i perni di sollevamentu in zaffiro ponu esse pruduciuti cù tolleranze submicroniche è finiture superficiali inferiori à 0,05 μm Ra. Geometrie persunalizate, cumpresi profili affusolati, cunfigurazioni di punta speciali è funzioni d'allineamentu integrate, ponu esse ingegnerizate per risolve sfide specifiche di manipulazione di wafer in apparecchiature di fabricazione di prossima generazione.