Piastra ceramica SiC in grafite cù rivestimentu CVD SiC per l'equipaggiu
A ceramica di carburu di siliciu ùn hè micca solu aduprata in a fase di deposizione di film sottile, cum'è l'epitassia o MOCVD, o in u processu di wafer, in u core di quale i vassoi di trasportatore di wafer per MOCVD sò prima sottumessi à l'ambiente di deposizione, è sò dunque assai resistenti à calore è corrosion.SiC-coated carriers hannu dinù altu conductivity termale è proprietà di distribuzione termale eccellente.
Carburo di Siliciu (CVD SiC) per a Deposizione Chimica Pura di Vapore (CVD SiC) wafer carriers per u processu di Depositu di Vapore Chimica Organica di Metallu à alta temperatura (MOCVD).
Pure CVD SiC wafer carriers sò significativamente superiore à i wafer carriers cunvinziunali utilizati in stu prucessu, chì sò grafite è rivestiti cù una strata di CVD SiC. sti traspurtadore basati in grafite rivestite ùn ponu micca resiste à e alte temperature (da 1100 à 1200 gradi Celsius) necessarii per a deposizione GaN di l'alta luminosità blu è bianca di l'oghje. L'alte temperature facenu chì u revestimentu sviluppeghja minusculi pinholes attraversu i quali i chimichi di u prucessu erode u grafite sottu. E particelle di grafite si sfaldanu è contaminanu u GaN, facendu chì u trasportatore di wafer rivestitu sia rimpiazzatu.
CVD SiC hà una purezza di 99.999% o più è hà una alta conductività termale è resistenza di scossa termale. Per quessa, si pò sustiniri l 'alti temperature è ambienti duru di manifattura LED high-luminosità. Hè un materiale monoliticu solidu chì righjunghji a densità teorica, pruduce particelle minime, è mostra una resistenza assai alta à a corrosione è à l'erosione. U materiale pò cambià l'opacità è a conduttività senza introduzione di impurità metalliche. Carriers Wafer sò tipicamenti 17 inch in diamitru è pò tèniri sin'à 40 2-4 inch wafers.