Substratu
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Wafer di carburo di siliciu da 2 pollici, tipu 6H-N, primu gradu, gradu fittiziu di ricerca, spessore 330 μm 430 μm
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Substratu di carburo di siliciu di 2 pollici 6H-N lucidatu à doppia faccia diametru 50,8 mm di qualità di pruduzzione qualità di ricerca
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substratu SIC di tipu p 4H/6H-P 3C-N di tipu 4 pollici 〈111〉± 0,5°Zero MPD
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Substratu SiC di tipu P 4H/6H-P 3C-N 4 pollici cù un spessore di 350 µm Gradu di pruduzzione Gradu fittiziu
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Wafer SiC 4H/6H-P da 6 pollici, qualità Zero MPD, qualità di pruduzzione, qualità fittizia
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Wafer di SiC di tipu P 4H/6H-P 3C-N 6 pollici di spessore 350 μm cù orientazione piatta primaria
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Prucessu TVG nantu à wafer di quarzu zaffiro BF33 Perforazione di wafer di vetru
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Wafer di siliciu monocristallinu Tipu di substratu Si N/P Wafer di carburu di siliciu opzionale
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Substrati cumposti SiC di tipu N Dia6inch Monocristallini di alta qualità è substrati di bassa qualità
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SiC semi-isolante nantu à substrati cumposti di Si
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Substrati cumposti SiC semi-isolanti Dia2inch 4inch 6inch 8inch HPSI
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U diametru è u spessore di u biancu di zaffiro monocristallinu di boule di zaffiro sinteticu ponu esse persunalizati.