Macchina di lucidatura à fasciu ionicu per zaffiro SiC Si
Diagramma dettagliatu


Panoramica di u produttu di a macchina di lucidatura à fasciu ionicu

A Macchina di Figurazione è Lucidatura à Fasciu Ionicu hè basata annantu à u principiu di a sputtering ionica. Dentru una camera à altu vuotu, una fonte di ioni genera plasma, chì hè acceleratu in un fasciu di ioni d'alta energia. Stu fasciu bombarda a superficia di u cumpunente otticu, eliminendu materiale à scala atomica per ottene una currezzione è una finitura di a superficia ultra-precise.
Cum'è un prucessu senza cuntattu, a lucidatura à fasciu ionicu elimina u stress meccanicu è evita i danni sottuterrani, rendendulu ideale per a fabricazione di ottiche d'alta precisione aduprate in astronomia, aerospaziale, semiconduttori è applicazioni di ricerca avanzate.
Principiu di funziunamentu di a macchina di lucidatura à fasciu ionicu
Generazione di ioni
U gasu inertu (per esempiu, l'argon) hè introduttu in a camera à vuoto è ionizatu per via di una scarica elettrica per furmà plasma.
Accelerazione è Formazione di Fasci
L'ioni sò accelerati à parechji centinaie o millaie di elettroni volt (eV) è furmati in un puntu di fasciu stabile è focalizatu.
Rimozione di materiale
U fasciu di ioni spruzza fisicamente l'atomi da a superficia senza inizià reazzioni chimiche.
Rilevazione di l'errori è pianificazione di u percorsu
E deviazioni di a figura superficiale sò misurate cù l'interferometria. E funzioni di rimuzione sò applicate per determinà i tempi di permanenza è generà percorsi di strumenti ottimizzati.
Currezzione in ciclu chjusu
I cicli iterativi di trasfurmazione è misurazione cuntinueghjanu finu à chì l'ubbiettivi di precisione RMS/PV sò ottenuti.
Caratteristiche principali di a macchina di lucidatura à fasciu ionicu
Compatibilità Universale di Superficie– Processa superfici piane, sferiche, asferiche è di forma libera
Tassa di rimozione ultra-stabile– Permette a currezzione di a figura subnanometra
Trasfurmazione senza danni– Nisun difettu sottuterraniu o cambiamenti strutturali
Prestazione consistente– Funziona altrettantu bè nantu à materiali di durezza variabile
Currezzione di Frequenza Bassa/Media– Elimina l'errori senza generà artefatti di media/alta frequenza
Bassa necessità di mantenimentu– Funziunamentu cuntinuu longu cù un tempu di inattività minimu
Specifiche tecniche principali di a macchina di lucidatura à fasciu ionicu
Articulu | Specificazione |
Metudu di trasfurmazione | Sputtering ionicu in un ambiente à altu vuotu |
Tipu di trasfurmazione | Figurazione è lucidatura di superfici senza cuntattu |
Dimensione massima di u pezzu di travagliu | Φ4000 mm |
Assi di muvimentu | 3 assi / 5 assi |
Stabilità di rimozione | ≥95% |
Precisione di a superficia | PV < 10 nm; RMS ≤ 0,5 nm (RMS tipicu < 1 nm; PV < 15 nm) |
Capacità di currezzione di frequenza | Elimina l'errori di bassa-media frequenza senza introduce errori di media/alta frequenza |
Funzionamentu cuntinuu | 3-5 settimane senza mantenimentu di u vacuum |
Costu di mantenimentu | Bassu |
Capacità di trasfurmazione di a macchina di lucidatura à fasciu ionicu
Tipi di superficia supportati
Simplice: Pianu, sfericu, prisma
Cumplessu: Asfera simmetrica/asimmetrica, asfera fora d'asse, cilindrica
Speciale: Ottiche ultrasottili, ottiche a lamelle, ottiche emisferiche, ottiche conformali, piastre di fase, superfici a forma libera
Materiali supportati
Vetru otticu: Quarzu, microcristallinu, K9, ecc.
Materiali infrarossi: siliciu, germaniu, ecc.
Metalli: Aluminiu, acciaio inox, lega di titaniu, ecc.
Cristalli: YAG, carburo di siliciu monocristallinu, ecc.
Materiali duri/fragili: carburo di siliciu, ecc.
Qualità di a superficia / Precisione
PV < 10 nm
RMS ≤ 0,5 nm


Studi di Casi di Trasfurmazione di a Macchina di Lucidatura à Fascio di Ioni
Casu 1 - Specchiu pianu standard
Pezzu: Pianu di quarzu D630 mm
Risultatu: PV 46,4 nm; RMS 4,63 nm
Casu 2 - Specchiu riflettente à raggi X
Pezzu: piastra piatta in silicone 150 × 30 mm
Risultatu: PV 8,3 nm; RMS 0,379 nm; Pendenza 0,13 µrad
Casu 3 - Specchiu fora d'asse
Pezzu: specchiu smerigliatu fora d'asse D326 mm
Risultatu: PV 35,9 nm; RMS 3,9 nm
FAQ di l'occhiali di quarzu
FAQ – Macchina per lucidà à fasciu ionicu
Q1: Chì ghjè a lucidatura à fasciu ionicu?
A1:A lucidatura à fasciu ionicu hè un prucessu senza cuntattu chì usa un fasciu focalizatu di ioni (cum'è l'ioni d'argon) per rimuovere u materiale da a superficia di una pezza. L'ioni sò accelerati è diretti versu a superficia, pruvucendu a rimozione di materiale à livellu atomicu, risultendu in finiture ultra-lisci. Stu prucessu elimina u stress meccanicu è i danni sottuterrani, rendendulu ideale per i cumpunenti ottici di precisione.
D2: Chì tippi di superfici pò trattà a Macchina Lucidatrice à Fasciu Ionicu?
A2:UMacchina di lucidatura à fasciu ionicupò trattà una varietà di superfici, cumpresi cumpunenti ottici simplici cum'èpiane, sfere è prismi, è ancu geometrie cumplesse cum'èasfere, asfere fora d'asse, èsuperfici di forma liberaHè particularmente efficace nantu à materiali cum'è u vetru otticu, l'ottica infrarossa, i metalli è i materiali duri/fragili.
Q3: Cù quali materiali pò travaglià a Macchina Lucidatrice à Fasciu Ionicu?
A3:UMacchina di lucidatura à fasciu ionicupò lucidà una larga gamma di materiali, cumpresi:
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Vetru otticuQuarzu, microcristallinu, K9, ecc.
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Materiali infrarossi: Siliciu, germaniu, ecc.
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Metalli: Aluminiu, acciaio inox, lega di titaniu, ecc.
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Materiali cristallini: YAG, carburo di siliciu monocristallinu, ecc.
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Altri materiali duri/fragili: Carburu di siliciu, ecc.
Nantu à noi
XKH hè specializata in u sviluppu high-tech, a pruduzzione è a vendita di vetru otticu speciale è novi materiali cristallini. I nostri prudutti servenu l'elettronica ottica, l'elettronica di cunsumu è l'armata. Offremu cumpunenti ottici in zaffiro, coperture per lenti per telefoni cellulari, ceramica, LT, SIC in carburo di siliciu, quarzu è wafer di cristallo semiconduttore. Cù una cumpetenza qualificata è attrezzature d'avanguardia, eccellemu in a trasfurmazione di prudutti non standard, cù l'obiettivu di esse una impresa high-tech di punta in materiali optoelettronici.
